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Tipo: Artigo de Periódico
Título: The refractive index enhancement at Si/Si O2 interfaces
Título(s) alternativo(s): Superlattices and Microstructures
Autor(es): Costa, E. A. Guimarães
Mota, F. de Brito
Silva, A. Ferreira da
Autor(es): Costa, E. A. Guimarães
Mota, F. de Brito
Silva, A. Ferreira da
Abstract: A polarization catastrophe is predicted for the refractive index of an inversion layer in a Si/Si O2 Metal - Oxide - Semiconductor Field-Effect Transition (MOSFET). The results detect a metal non-metal transition at a certain impurity critical concentration.
URI: http://www.repositorio.ufba.br/ri/handle/ri/8705
Data do documento: 1993
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