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Universidade Federal da Bahia |
Repositório Institucional da UFBA
Use este identificador para citar ou linkar para este item: https://repositorio.ufba.br/handle/ri/7533
Tipo: Artigo de Periódico
Título: Electrical resistivity, MNM transition and band-gap narrowing of cubic GaN:Si
Título(s) alternativo(s): Microelectronics Journal
Autor(es): Araújo, Carlos Moysés
Fernandez, J. R. L.
Silva, A. Ferreira da
Pepe, Iuri Muniz
Leite, J. R.
Sernelius, Bo E.
Persson, C.
As, D. J.
Autor(es): Araújo, Carlos Moysés
Fernandez, J. R. L.
Silva, A. Ferreira da
Pepe, Iuri Muniz
Leite, J. R.
Sernelius, Bo E.
Persson, C.
As, D. J.
Abstract: The electrical resistivity of the Si-donor cubic GaN is investigated theoretically at low temperature. The critical impurity concentration, Nc, for the metal–nonmetal transition is estimated in three different ways: from using the generalized Drude approach (GDA) for the resistivity; from the vanishing of the chemical potential calculated using the dielectric function model with a Lorentz-Lorenz correction; from finding the crossing point between the energy in the insulating and metallic states. The bandgap narrowing (BGN) has been determined theoretically and experimentally above the MNM transition. The experimental data have been obtained with photoluminescence measurements. Theoretical and experimental results are in rough agreement in the range of impurity concentration of interest.
Palavras-chave: Resistivity
Metal–nonmetal transition
Band-gap shift
Photoluminescence
URI: http://www.repositorio.ufba.br/ri/handle/ri/7533
Data do documento: Abr-2002
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